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關于深能級瞬態(tài)譜儀,有什么是我們不知道的

更新時間:2022-09-06      點擊次數:928
  深能級瞬態(tài)譜是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術手段。
  
  深能級瞬態(tài)譜儀可以給出與陷阱有關的密度,熱交叉選擇,能級,空間分布等。通過監(jiān)測半導體結在不同溫度下的脈沖產生的電容、電流或電荷瞬變,可產生每個深度級別的光譜,每個深能級都有一個峰值。
  
  根據半導體P-N結、金-半接觸結構肖特基結的瞬態(tài)電容(△C~t)技術和深能級瞬態(tài)譜(DLTS)的發(fā)射率窗技術測量出的深能級瞬態(tài)譜,是一種檢測靈敏度的實驗方法。能檢測半導體中微量雜質、缺陷的深能級及界面態(tài)。
  
  通過對樣品的溫度掃描,可以給出表征半導體禁帶范圍內的雜質、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度(即能量)分布的DLTS譜。同時DLTS測試軟件集成多種全自動的測量模式及全面的數據分析,可以確定雜質的類型、含量以及隨深度的分布。
  
  深能級瞬態(tài)譜儀測試須知:
  
  1、樣品大?。?lt;20mm*20mm;電極直徑:>600微米;電極距離:>1mm或者在兩面。
  
  2、樣品結構
  
 ?。?)肖特基結構;
  
 ?。?)P/N結結構(p/n+或者n/p+);
  
 ?。?)MIS(MOS)結構。
  
  測試溫度78K~700K,一定要提供樣品結構示意圖。
  
  3、測試需要提供參數
  
 ?。?)樣品標注正負極;
  
  (2)電流,電壓值;
  
  (3)結的面積。對于肖特基,即肖特基金屬的面積;對于PN結,即PN結的面積,對于MIS(MOS),即柵介質上金屬的面積;由于測試探針針尖面積約500平方微米,故要求結的面積要大于針尖面積。
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