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納米壓印系統-光刻機 介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

硅穿孔工藝設備-光刻機 晶圓和晶圓之間制作垂直導通，實現芯片之間互連的新技術。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術中引人注目的新技術。

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光刻機/紫外曝光機 該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精妙的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

勻膠機其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。