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低溫等離子體源是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到擊穿電壓時，氣體分子被電離，產(chǎn)生包括電子、離子、原子和原子團在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體，也叫非平衡態(tài)等離子體。如果電子的溫度和重粒子溫度差不多，則為高溫等離子體，或平衡態(tài)等離子體。低溫等離子體源中能量的傳遞大致為:電子從電場中得到能量，通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為分子的內(nèi)能和動能，獲得能量的分子被激發(fā)，與此同時，部分分子被電離，這些活化了的粒子...

皮可安培計測量電路中電流強度的儀器，也叫安培表、電流表。主要類型有轉(zhuǎn)動線圈式電流表、轉(zhuǎn)動鐵片式電流表、熱偶式電流表以及熱線式電流表。當被測電流流過固定線圈時，產(chǎn)生磁場，一塊軟鐵片在所產(chǎn)生的磁場中轉(zhuǎn)動，能用來測試交流或直流，比較耐用，但不及轉(zhuǎn)動線圈式電流表靈敏。安培計也能用于交流或直流，其中有一電阻器，當電流流過時，電阻器熱量上升，電阻器與熱偶接觸，熱偶與一表頭相連，從而構(gòu)成熱偶式電流表，這種間接式電表主要用來測量高頻交流。皮可安培計在使用時，夾住線的兩端，線被加熱，它的延長部...

表面光電壓譜可以用來測定半導體的導電類型（特別是有機半導體的導電類型）、半導體表面參數(shù)，研究納米晶體材料的光電特性，了解半導體光激發(fā)電荷分離和電荷轉(zhuǎn)移過程，實現(xiàn)半導體的譜帶解釋，并為研究符合體系的光敏過程和光致界面電荷轉(zhuǎn)移過程提供可行性方法。光譜研究光生載流子反應動力學，半導體受激光激發(fā)后產(chǎn)生載流子，在其衰減過程中可發(fā)生一系列的變化和反應，時間分辨紫外可見吸收光譜可監(jiān)測其隨時間變化，確定載流子的檢測波長，光生電子和空穴的特征吸收波長可調(diào)控電極一種載流子濃度而測量另一種載流子的...

多功能磁控濺射儀在單個陰極靶系統(tǒng)中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用，適用于高分辨掃描電鏡及聚焦離子束掃描電鏡樣品的噴金以及樣品等離子體清洗等多種用途。儀器實現(xiàn)磁控濺射噴金，獲得更為細膩的金膜，以滿足高分辨掃描電鏡等樣品處理，同時具備射頻離子源實現(xiàn)樣品清洗，高效、低等離子體轟擊損傷，核心部件采用無油分子泵組，靜音、無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染，保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性，觸摸屏界面操作，即插即用。該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設(shè)備體積小...

磁控濺射鍍膜機在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向。另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量，同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。射頻磁控濺射相對于直流磁控濺射的主要優(yōu)點是，它不要求作為電...

快速化學淬滅系統(tǒng)是多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng)，產(chǎn)品設(shè)計解決您快速動力學應用中的需要，自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究，標準停流配置適用所有光學模式：吸收，熒光，圓二色，熒光各向異性光譜等測定。比色池多樣性，可擴展溫度適用范圍，可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，EPR停流，低溫停流，自動滴定，停流電導，快速混合溫度突變系統(tǒng)，微重力實驗研究等。儀器有外部信號輸入通道，同步16位...